性能指标

1.分析室真空腔：由厚度5mm纯μ金属制造，最佳真空度≤5.0×10^-10mbar。2.分析室真空系统组成：配置机械泵，分子涡轮泵及钛升华泵各一套。3.进样室真空度：最佳真空度≤7.0×10^-9mbar。4.进样室真空系统组成：配置涡轮分子泵和机械泵各一套。5.单色化Al X射线源。6. X射线源-源束斑尺寸范围满足200～900μm，可选规格为200、250、300、400、500、650和900μm，总计7档。7.最佳能量分辨率和灵敏度：对Ag3d5/2峰，半高宽≤0.43 eV时，计数率≥90 kcps。8.能量扫描范围：满足0～5000 eV。

主要应用

可以用于：1）各种材料的表面化学价态分析及深度分布测试；2）有机物、储氢材料的氢元素定量测试；3）研究半导体材料的带隙和功函数等。

样品要求

1.粉末样品提供20-30mg，量少请用铝箔纸包好再装到管子里寄送；块状/薄膜：长宽厚不超5*5*3mm。

2.H、He元素不可以测试，放射性元素请提前沟通。3.样品无法回收。

仪器说明

主要用于粉末、薄膜、高分子等材料的表面几个原子层（1~10纳米厚的表面）的化学组成、价态，深度剖析及成像、功函数特性的分析与表征。